某半导体材料生产企业公司因晶圆的清洗繁琐流程产生了含氨废气，的水量200吨/天。废气中除氯离子外还包含氟化物和轻微天价属，加工处理难度很大大。场地排出条件需求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水化学成分及起源 晶圆擦洗化工废水（主要的因素）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程污废水 ：含微量分析铜、镍等高价属，pH值动荡大 CMP粉磨废液：含硅颗粒状及氟化物 正确处理过程过程 采用了"电化学积淀+膜脱离+折点氯化"结合加工： 预工作 ：添加CaCl2除氟，把控好pH在7.5-8. 超滤膜体系 ：剔除0.01μm上文粉末物 反侵入提液 ：将氯离子沉淀至1000mg/L往上 折点氯化 ：正确抑制氯添加量，将氧化还原电位转变为离氮气 亚铁离子交互 ：确保巨资属符合标准 既定功能 挥发酚增强＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属水平不低于的检测限 水造纸废水处理率达75% 淤泥造成量抑制40%